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真空鍍膜的種類
在真空中制備膜層，包括鍍制晶態的金屬、半導體、絕緣體等單質或化合物膜。雖然化學汽相沉積也采用減壓、低壓或等離子體等真空手段，但一般真空鍍膜是指用物理的方法沉積薄膜。真空鍍膜有三種形式，即蒸發鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。?蒸發鍍膜通過加熱蒸發某種物質使其沉積在固體表面，稱為蒸發鍍膜。這種方法最早由M.法拉第于1857年提出，現代已成為常用鍍膜技術之一。蒸發物質如金屬、化合物等置于坩堝內或掛在熱絲上作為蒸
2021
03-24
分子增壓泵應該用實例
1．中科院近代物理研究所：重離子加速器大流量差分系統（2006年）2006年，采用二臺MB200B分子增壓泵，成功取代當時最清潔的中真空機組：ZJ-600羅茨泵+液氮冷阱，世界上首次攻克重離子加速器大流量差分系統的油蒸汽污染難題，顯著提高加速器的分析精度，節省設備費用5萬元，節省抽氣能耗90%，為我國加速器領域趕超國際先進水平作出了重要貢獻。?該項成果在2007年STOCKHOLM第17屆國際真空
什么是NCVM及 NCVM真空電鍍
NCVM又稱不連續鍍膜技術或不導電電鍍技術，是一種起緣普通真空電鍍的高新技術。真空電鍍，簡稱VM，是vacuummetalization的縮寫。它是指金屬材料在真空條件下，運用化學、物理等特定手段進行有機轉換，使金屬轉換成粒子，沉積或吸附在塑膠材料的表面，形成膜，也就是我們所謂的鍍膜。真空不導電電鍍，又稱NCVM，是英文Nonconductivevacuummetalization的縮寫。它的加工
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